邑文科技Micro LED工艺实现方案亮相CIOE

    第二十五届中国国际光电博览会（CIOE中国光博会）2024年9月11-13日在深圳国际会展中心举办。作为覆盖光电全产业链的综合型展会，CIOE中国光博会汇聚了来自全球超30个国家和地区的超3700家的优质参展企业。

展会现场

    邑文作为国内领先的半导体设备制造商，展示了超表面工艺实现方案、玻璃衬底/碳化硅基衬底的光栅制造技术、Micro Lens工艺实现方案、Micro LED工艺实现方案。邑文科技资深专家团队凭借丰富的行业经验和深厚的专业知识，与莅临邑文展位的客商、行业同仁进行了深入交流，进一步提升了品牌知名度和影响力。

    叶国光博士，现任邑文科技副总经理，在光电半导体行业沉淀凝练25年，台湾清华大学工程物理研究所毕业后，再东渡日本名古屋工业大学探求新知，主要研究方向为氮化镓GaN与砷化镓GaAs等化合物半导体材料，尤其是关于LED的芯片与封装的研发与量产等领域，具备国际化视野，聚焦全球新材料新技术动向。

    叶博在展会期间分享了以“半导体薄膜与刻蚀技术在元宇宙的进展”为主题的演讲，结合当前的元宇宙产业的进程，薄膜刻蚀设备发展进程，展示了邑文当前的最新设备，并着重介绍了ALE（原子层刻蚀）工艺的流程、优势等。演讲内容丰富精彩，现场汇聚了很多听众。

    邑文科技秉持不断进取的精神，深耕半导体设备行业致力于为国家半导体设备产业的国产化做出贡献。

    感谢各位来访客户及观众，我们将在明年CIOE中国光博会带来更多更具竞争力的产品及服务，与众多合作伙伴一起推动中国半导体产业的持续发展！期待再见！

    关于邑文

    邑文科技成立于2011年，主营业务为半导体设备的研发、制造，公司主要产品为刻蚀工艺设备和薄膜工艺设备，广泛应用于半导体(IC及OSD)前道工艺阶段，尤其是化合物半导体和MEMS等领域。

    公司总部位于无锡市观山路一号，制造中心位于南通市如东金山路一号。制造中心配备有超过3000平米的万级无尘室和全特气通入的千级无尘实验室。

    邑文科技秉持“态度、品质、效率”的企业文化，深耕于半导体设备行业，一直致力于为国家半导体设备产业的国产化做出贡献。