冠石科技：光掩膜项目建成达产后，年产 12450 片能力

    2025 年 9 月 12 日，南京冠石科技股份有限公司（证券代码：605588，证券简称：冠石科技）以网络互动形式，在上证路演中心召开 2025 年半年度业绩说明会。公司董事长张建巍、总经理门芳芳、董事会秘书王顺利、财务总监潘心月及独立董事刘汉明、江小三共同出席，与广大投资者深入沟通，全面解答市场关切，传递公司发展战略与业务核心价值。

    会上，冠石科技董事长张建巍率先发表开场致辞。他代表公司董事会、管理层及全体员工，对参与说明会的投资者表示诚挚欢迎，并感谢上证路演中心为本次交流提供的支持。张建巍强调，本次业绩说明会旨在搭建透明高效的沟通桥梁，充分回应投资者关心的问题，帮助市场更全面、深入地理解公司业务本质与长期投资价值，同时也期待听取投资者的宝贵意见与建议，助力公司持续优化发展路径。

    在互动问答环节，投资者围绕公司产品进展、核心业务光掩膜项目的研发与投产规划等关键议题展开提问，公司管理层逐一坦诚回应，披露多项重要信息：

    针对某产品进展，公司明确表示，目前该产品已进入送样验证阶段，整体验证周期预计为 6-9 个月，后续将根据验证进度及时推进相关工作。

    作为市场高度关注的核心发展领域，光掩膜项目的进展成为本次交流的焦点。面对投资者关于 28 纳米产品投产时间、研发水平、竞争格局、国产替代空间、技术追赶目标及 2025 年底营收占比的系列提问，公司回应称，光掩膜项目建设周期设定为 60 个月，项目建成达产后，将具备年产 12450 片半导体光掩膜版的能力。公司光掩膜研发团队核心成员均在该领域拥有丰富的技术研发、生产管理经验及行业资源，将严格按照工作计划推进生产落地。项目投产后，冠石科技将跻身国内技术能力先进的独立光掩膜版生产企业行列，可有效填补国内先进制程光罩空白，打破国外企业在高端光掩膜版领域的垄断局面，显著提升我国半导体光掩膜产业的安全可控性。

    关于光掩膜产品的技术储备与投产优先级，公司进一步透露，宁波子公司光掩膜版项目的半导体光掩膜版技术节点已锁定 350-28nm，其中以 45-28nm 为主力方向。该技术布局将加速公司在高精度、低线宽半导体光掩膜版领域的进口替代进程，同时填补国内中高端集成电路芯片用光掩膜版的市场空白，为国内半导体产业链完善提供关键支撑。