华海清科 CMP 装备累计出机超 800 台，成功切入第三代半导体、CIS、MEMS、MicroLED以及先进封装等领域

    2025 年 12 月 20 日，华海清科股份有限公司（证券代码：688120，证券简称：华海清科）发布自愿性披露公告，宣布公司化学机械抛光（CMP）装备累计出机数量突破 800 台，此次出机涵盖 Universal-H300、Universal-S300 等多款主力机型及最新款机型，不仅全面覆盖逻辑、3D NAND 存储、DRAM 存储等主流产品线，更成功切入大硅片、第三代半导体、CIS、MEMS、MicroLED 以及先进封装等领域头部客户供应链，已实现国内主流集成电路制造产线的全覆盖和批量化应用。

    此次累计出机超 800 台的成绩，标志着华海清科的技术先进性、产品成熟度、质量可靠性与市场适配性获得行业高度认可，彰显国产 CMP 装备在核心应用领域的替代能力持续增强，进一步夯实了公司在 CMP 装备领域的国产龙头地位。

    在市场应用与业务协同方面，当前国内 AI 技术在算法架构、算力密度等核心维度的持续突破，带动先进封装与芯片堆叠技术迎来深层发展机遇。华海清科的 CMP 装备可与公司减薄装备、划切装备、边抛装备等产品形成协同效应，为先进封装与芯片堆叠等领域提供切、磨、抛的成套解决方案，未来产品应用场景将持续拓宽，市场增长空间进一步打开。同时，随着 CMP 装备保有量的不断攀升，公司 “装备 + 服务” 平台化战略协同效应显著释放，关键耗材与维保服务业务量也将快速提升，为公司贡献持续稳定的利润增长点。

    未来发展规划上，华海清科将继续坚持核心技术自主创新，持续加大研发投入力度。一方面聚焦先进制程突破，围绕现有产品体系，针对更先进制程工艺及功能需求推进技术迭代升级，不断提升产品核心性能；另一方面结合自身业务发展布局，密切跟踪 HBM、CoWos 等先进封装技术演进趋势，持续推进产品技术革新与品类拓展，致力于为客户提供更先进、多元的成套解决方案，充分把握集成电路产业链技术升级与国产替代机遇，进一步强化核心竞争力、提升市场份额。

    公告同时提示相关风险：公司 CMP 装备出机前已通过出厂检测，但机台仍需在客户现场完成安装调试及工艺验证，可能受客户产线适配、技术参数优化等因素影响，存在验证周期延长或不及预期的风险，公司将全力配合客户推进验收工作；此外，公司新产品机台尚需市场推广和更多客户验证，存在未来市场推广与客户开拓不及预期的风险，敬请广大投资者注意投资风险。