OLEDON开发适用于超大型基板的垂直平面源沉积技术

    总部位于韩国的OLEDON公司日前宣布开发出一种垂直平面源沉积技术（vertical-plane source deposition），可用于生产小面积和大面积OLED面板。该公司现在正在将这项技术应用于超大型基板，最大尺寸为12代（3300x4000 mm）。

    OLEDON表示，目前使用的inline蒸发工艺由于FMM下垂和难以控制多个来源而降低了大面积生产的产量。该公司的垂直平面源沉积可能被证明是一种可行的替代方案。

    2017年，OLEDON开发了一种平面源蒸发阴影掩模工艺，可以实现0.38um的阴影距离，从而可以使OLED显示屏的分辨率达到2,250 PPI。该公司表示，此项技术未来将可实现3,300 PPI。